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ASML明年将发布新一代EUV光刻机 三星太子急赴荷兰

2020-10-17 05:02 次阅读
10月15日,据国外媒体报道,目前全球顶尖的光刻机生产商ASML正在研发第三款EUV光刻机,并计划于明年年中出货。
 
 
从其所公布的信息来看,新款光刻机型号命名为TWINSCAN NXE:3600D,相比上一代产品,新款EUV光刻机生产效率将提升18%,曝光速度为30mj/cm²,每小时可处理160片晶圆。
 
有意思的是,在2019年的年报中,ASML便提到正在研发新一代EUV光刻机的计划,不过并未透露具体型号,只是披露将在2022年初计划出货,2024年后大规模生产。而此次所公布的EUV光刻机如果是2019年财报中提到的那款,那么这款光刻机发布的计划意味着已经提前了。
 
据ASML公布的2020年第三季度财报来看,第三季度销售额为40亿欧元,净利润11亿欧元,毛利率为47.5%,净利润为27.5%,新增订单为29亿欧元,其中有5.95亿欧元来自4台EUV设备,平均售价为1.48亿欧元。
 
EUV光刻机是当前7nm工艺以下必不可少的设备,全球仅有ASML能够供应,且仅有台积电和三星掌握了7nm制程以下的芯片制作。
 
当前ASML所售出的两款EUV光刻机型号分别为TWINSCAN NXE:3400B和TWINSCAN NXE:3400C,均采用13.5nm极紫外光源,曝光速度为20mj/cm²,每小时处理125片晶圆。
 
有意思的是,作为与台积电激烈竞争的三星,近日被韩媒报道称,三星电子副会长李在镕证实,已经正在与ASML进行谈判,以推进与ASML的业务关系。
 
而几个月之前,三星便已经宣布,正在致力于开发EUV扫描技术,此次三星太子李在镕前往荷兰ASML,也是为了探讨如何发展EUV技术。游侠西城,李在镕参观了EUV设备的生产线。
 
显然,从目前来看,三星已经提前介入了下一代EUV技术的争夺当中,面对三星的出招,台积电方面又会如何应对呢?

本文由电子发烧友综合报道,内容参考自ASML、Techweb,转载请注明以上来源。
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